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等离子处理设备

等离子处理设备

Plasma equipament

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WAP系列宽幅等离子处理设备
宽幅式等离子设备是通过DBD(Dielectric Barrier Discharge)介质阻挡放电技术形成稳定连续Plasma的先进设备。

产品优势

人机交互系统;
不改变机体固有特性,改性仅发生在表面;
全程干法处理,无污染;
放电稳定,处理均匀;
低温,无烫伤或击穿风险;
单次处理宽度较宽。

产品参数

参数规格
类别 WAP-H系列 WAP-R系列
处理宽度 100-400mm,可定制 100-250mm,可定制
电源功率 2000W 500W
电源频率 20-50KHz 13.56MHz
主要工作气体 N2 Ar
流量范围 100-500SLM 10-100SLM
气源压力 0.4MPa以上 0.2-0.4MPa
冷却方式 气冷 水冷

行业应用

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